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RF射频电源为PECVD系统射频发生器

PECVD系统，它由管式炉，石英真空室、真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。

 

主要使用于:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能。该PECVD系统具有： 薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等点。

 

 RF射频电源主要技术参数：

功率输出范围	0-500W
反射功率	200W
工作频率	射频：13.56MHZ±0.005%
功率稳定度	+/-0.1%
谐波分量	≤-50dbc
射频区域宽度	0-600mm 可调
匹配方式	自动
冷却方式	分冷
噪声	<50dB
射频接口	50Ω   N-type
输入电源	208-240V  50/60HZ

 

 

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