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实验室用PECVD系统设备

名称:PECVD厂家 发布时间: 2020-11-10  点击数:167  

PECVD系统简介

为了降低化学沉积温度,利用了等离子体的活性来促进反应,这种CVD系统称之为等离子体增强型化学气相沉积系统(PECVD),该PECVD系统设备可以根据气体的种类数量、射频功率大小、气体是否需要预热、沉积所需温区随意定制。

PECVD系统主要参数

型号

SGM1200-PE60

SGM1200-PE60Y

工作温度

≤1000℃

≤1000℃

升温速率

10℃/min

10℃/min

气体预热区

200mm

沉积区长度

200mm

440mm

恒温区长度

100mm

220mm

石英管管径

50/60mm

50/60/80-100mm

控温方式

30段PID程序控温

30段PID程序控温

射频功率

100/300/500W自匹配

100/300/500W自匹配

射频频率

13.56Mhz

13.56Mhz

真空泵抽速

4L/s

4L/s

真空度

≤10Pa

≤10Pa

进气种类

1~4种

1~4种

功率

220V/4kw

220V/7kw

 

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